在許多情況下，勻膠旋涂儀基片上已經(jīng)由前面工序留下來的精細圖形。因此，在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過程總是對光刻膠產(chǎn)生離心力，而恰恰是加速度對光刻膠產(chǎn)生扭力（twisting force），這個扭力使光刻膠在已有圖形的周圍散開，這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。

　　勻膠旋涂儀的控制和顯示：

　　1.非常方便設定處理速度和加速度程序段；可設置順序循環(huán)控制；

　　2.顯示精度控制在設定值的0.006%以內(nèi)；

　　3.操作者可隨時隨地自由實現(xiàn)人機交互；

　　設備運轉(zhuǎn)進程中，可隨意向前，向后或者往返跳躍操作步驟；循環(huán)指令，并可以重復操作；在運轉(zhuǎn)模式下也可以實時改變速度和加速度；包含PC程序端接口；可視化操作模型（化學試劑，傳感器所見即所得的操作界面）；故障報警裝置（可形象顯明故障發(fā)生位置）；加速度的小分辨率為1RPM/S；寬廣的速度設定范圍（1~12000RPM）。

　　勻膠旋涂儀設備，包括弧形板，儲膠區(qū)，導流板，支撐柱和固定板，弧形板的弧度與使用的上膠輥外壁相同，弧形板的一側(cè)設置有儲膠區(qū)，與其對應的另一側(cè)設置有導流區(qū)，弧形板頂部中心設置有兩個相同的支撐柱，任意支撐柱頂部設置有螺母，任意支撐柱和螺母之間設置有固定板。任意支撐柱外壁有螺旋紋路，任意支撐柱和螺母螺旋連接。勻膠旋涂儀設備有益之處在于：能夠?qū)⒛z液部勻，防止多余的膠液溢出，方便清潔，延長使用壽命，提高涂膠機工作效率。